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J-GLOBAL ID：201503069261266388

レーザ加工装置および製造方法

Inventor：
玉木 隆幸

About 玉木 隆幸

, 
小野 俊介

About 小野 俊介

, 
中村 圭吾

About 中村 圭吾

, 
中角 真也

About 中角 真也


Applicant, Patent owner：
独立行政法人国立高等専門学校機構

About 独立行政法人国立高等専門学校機構


Agent (2)： 古谷 栄男 ,  松下 正
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013154687
Publication number (International publication number)：2015024419
Application date： Jul. 25, 2013
Publication date： Feb. 05, 2015
Summary：
【課題】 フェムト秒レーザのみでは加工できない、あるいは加工が不十分であるような場合でも、適切な加工を行うことが可能な装置を提供する。 【解決手段】 フェムト秒レーザに重ねて、炭酸ガスレーザを照射する。炭酸ガスレーザの照射により、フェムト秒レーザによる分子結合の切断が生じやすくなる。したがって、フェムト秒レーザのみでは加工できなかった場合であっても、炭酸ガスレーザの併用によって加工が可能となった。また、炭酸ガスレーザ照射による熱レンズ効果によって、フェムト秒レーザの焦点位置が深くなり、炭酸ガスレーザの出力に応じて加工深さを変化させることができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
超短光パルスレーザを対象物の照射領域に照射する超短光パルスレーザ照射手段と、 前記対象物の超短光パルスレーザーの照射領域に、熱効果レーザを重ねて照射する熱効果レーザ照射手段と、 を備えたレーザ加工装置。
IPC (4)：
B23K 26/00 ,  B23K 26/40 ,  B23K 26/064 ,  C03C 23/00
FI (5)：
B23K26/00 B ,  B23K26/00 N ,  B23K26/40 ,  B23K26/06 A ,  C03C23/00 D
F-Term (17)：
4E068AA05 ,  4E068AB01 ,  4E068CA02 ,  4E068CA03 ,  4E068CA15 ,  4E068CB02 ,  4E068CC02 ,  4E068CD02 ,  4E068CD08 ,  4E068CD10 ,  4E068CE05 ,  4E068DB13 ,  4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AB05 ,  4G059AB17 ,  4G059AC09
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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