自己組織化可能な重合体及びリソグラフィにおける使用方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：稲葉良幸 , 大貫敏史
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2014551554
Publication number (International publication number)：2015510258
Application date： Dec. 18, 2012
Publication date： Apr. 02, 2015
Summary：

交互ドメインの秩序アレイを形成するように配向された自己組織化ブロック重合体層を形成する方法が開示されている。本方法は、自己組織化可能なブロック共重合体の層を基板上に提供することと、ドメインの秩序アレイを形成するために層の自己組織化を誘発する前に、第1界面活性剤を層の外表面上に堆積させることと、を含む。第1界面活性剤は、疎水性尾部及び親水性頭部基を有し、ブロック共重合体重合体を、交互ドメインを有する秩序アレイへと組織化することを促進するために、ブロック共重合体層の外表面における界面エネルギを減少させるように作用する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

基板上に自己組織化可能なブロック共重合体の秩序アレイを形成する方法であって、自己組織化可能なブロック共重合体の層を有する基板を提供することであって、前記ブロック共重合体は親水性ブロック及び疎水性ブロックを含む分子を有し、前記層は外表面を有する、提供することと、前記層の前記外表面上に第1界面活性剤を堆積させることであって、前記第1界面活性剤が、疎水性尾部及び親水性頭部基を有する分子を有し、前記親水性頭部基は、前記ブロック共重合体の前記親水性ブロックに前記第1界面活性剤を吸着させる、堆積させることと、前記自己組織化可能なブロック共重合体の自己組織化を引き起こして、前記基板上の前記層から前記自己組織化可能なブロック共重合体の前記秩序アレイを形成するために前記層を処理することと、を含む、方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 , B82Y 40/00

FI (2)：

H01L21/30 502D , B82Y40/00

F-Term (1)：

5F146AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

積層体およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-334289 Applicant：大日本印刷株式会社
薄膜の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-100177 Applicant：キヤノン株式会社
スタンプを形成する方法、基板をパターン化する方法、ならびにそのためのスタンプおよびパターニングシステム
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2010-504227 Applicant：マイクロンテクノロジー,インク.

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Cited by examiner (3)

薄膜の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-100177 Applicant：キヤノン株式会社
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ポリマー材料表面相互作用を変えるための方法及びプロセス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-283148 Applicant：オブダカット・アーベー

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

"Surfactant-Assisted Orientation of Thin Diblock Copolymer Films"

Cited by examiner (1)

"Surfactant-Assisted Orientation of Thin Diblock Copolymer Films"

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