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J-GLOBAL ID：201602017840592208   Reference number：70A0245642

Application of RF discharges to sputtering.

高周波放電のスパッタリングへの応用
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Author (2)：
KOENIG H R

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MAISSEL L I

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Material：
IBM J Res Dev  (IBM Journal of Research and Development)

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Volume： 14  Issue： 2  Page： 168-171  Publication year： 1970 
JST Material Number： D0061B  ISSN： 0018-8646  CODEN： IBMJAE  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)
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