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J-GLOBAL ID：201602201238593630   Reference number：16A0213528

Hydrogen generation technologies using semiconductor materials

半導体を用いた水素生成技術

Author (1)： KATO MASASHI (名古屋工大 大学院工学研究科)
Material： 応用物理  (JSAP International)
Volume： 85  Issue： 2  Page： 100-104  Publication year： Feb. 10, 2016 
JST Material Number： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *hydrogen evolution reaction ,  greenhouse effect gas ,  decomposition reaction ,  *photocatalyst ,  photoelectrochemical reaction ,  *photoelectrode ,  silicon carbide ,  compound semiconductor ,  titanium oxide ,  cuprous oxide ,  *water decomposition
Semi thesaurus term： hydrogen generation

JST classification (1)： Photochemistry in general  (CB08010U)

Reference (56)：

• W. Grochala and P.P. Edwards: Chem. Rev. 104, 1283 (2004).
• I. Akkerman, M. Janssen, J. Rocha, and R.H. Wijffels: Int. J. Hydrogen Energy 27, 1195 (2002).
• K. Maeda and K. Domen: J. Phys. Chem. Lett. 1, 2655 (2010).
• T. Bak, J. Nowotny, M. Rekas, and C.C. Sorrell: Int. J. Hydrogen Energy 27, 991 (2002).
• 阿部竜:応用物理83,112(2014).

Terms in the title (1)： 水素生成