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J-GLOBAL ID：201602206322834513   Reference number：16A0267702

Si異方性ウエットエッチングによる規則配列ピラミッドテクスチャーの作製

Author (4)： ITO KAZUO (群馬大) ,  UEHARA NAOKI (群馬大) ,  FUKUDA TAKUYA (群馬大) ,  NOGUCHI KATSUYA (群馬大)
Material： 群馬大学高度人材育成センター年報  (Annual Report of GU-HRCC)
Issue： 19  Page： 16-17  Publication year： Nov. 2015 
JST Material Number： L6814A  Document type： Year Book
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： etching ,  anisotropy ,  *wet etching ,  reduction ,  *reflectivity ,  wafer ,  silicon ,  electron beam lithography ,  pyramidal molecule ,  *solar cell ,  Si wafer
Semi thesaurus term： Si wafer ,  anisotropic etching ,  wet etching ,  electron beam lithography ,  reflection factor reduction

JST classification (1)： Solar cell  (NC03084O)

Terms in the title (5)： Si ,  異方性 ,  エッチング ,  規則配列 ,  作製