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J-GLOBAL ID：201602217285042646   Reference number：16A0357682

Gasochromic Properties of WO₃ Films Prepared by Reactive Sputtering Deposition

反応性スパッタリング法によって堆積したWO₃薄膜のガスクロミック特性

Author (4)： YAMAMOTO S. (JAEA) ,  HAKODA T. (JAEA) ,  MIYASHITA A. (JAEA) ,  YOSHIKAWA M. (JAEA)
Material： 日本原子力研究開発機構JAEA-Review(Web)
Issue： 2015-022  Page： 4-01 (WEB ONLY)  Publication year： Feb. 2016 
JST Material Number： U0296A  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *gas sensor ,  optical sensor ,  thin film growth ,  sputtered deposition ,  reactive sputtering ,  *tungsten oxide ,  thin film ,  platinum catalyst ,  substrate temperature ,  temperature dependence ,  absorbance ,  optical transmission ,  *coloring(operation) ,  crystal structure ,  morphology ,  surface structure ,  *optical property ,  cycloalkane
Semi thesaurus term： *gasochromism ,  *tungsten trioxide ,  oxide thin film ,  *hydrogen sensor ,  *thin film sensors ,  surface morphology

JST classification (2)： Other optical effects  (BM08040H) ,  Other optical devices  (BD06060O)

Substance index (1)： Cyclohexane

Reference (2)：

• K. Yoshimura et al. Appl. Surf. Sci. 257 (2011) 4428.
• S. Yamamoto et al, Mater. Res. Express, 2, (2015) 026401.

Terms in the title (3)： 反応性スパッタリング ,  堆積 ,  薄膜