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J-GLOBAL ID：201602236964635008   Reference number：16A1190777

シリコン表面における微小水滴の凝縮機構の解析

Author (7)： HONDA TAKUYA (東大) ,  FUJIMOTO KEN'YA (東大) ,  YOSHIMOTO YUTA (東大) ,  MOGI KATSUO (東京工大) ,  KINEFUCHI IKUYA (東大) ,  SUGII YASUHIKO (東京工大) ,  TAKAGI SHU (東大)
Material： 日本伝熱シンポジウム講演論文集(CD-ROM)
Volume： 53rd  Page： ROMBUNNO.D113  Publication year： 2016 
JST Material Number： F0872D  ISSN： 1346-1532  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *water droplet ,  surface ,  *condensation ,  fine particle ,  scanning electron microscope ,  water vapor ,  contact angle ,  diameter ,  growth rate ,  undercooling ,  *wafer ,  surface roughness ,  internal fracture fixation ,  growth model ,  environmental scanning electron microscope ,  *Si wafer
Semi thesaurus term： submicron particle ,  environmental scanning electron microscope ,  continuous image ,  *silicon substrate ,  pinning

JST classification (2)： Heat transfer accompanied with phase change  (PA02040V) ,  Materials of solid-state devices  (NC03020K)

Terms in the title (5)： シリコン ,  微小 ,  水滴 ,  凝縮 ,  解析