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J-GLOBAL ID：201602263661176263   Reference number：16A0568057

Effects of Substrate Bias on Tribological Properties of Diamondlike Carbon Thin Films Deposited Via Microwave-Excited Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

マイクロウェーブ励起プラズマ強化型化学蒸着法で積層されたダイヤモンドライクカーボン薄膜のトライボロジー特性に及ぼす基板バイアスの影響

Author (4)： KHUN Nay Win (Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP) ,  NEVILLE Anne (Univ. Leeds, Leeds, GBR) ,  KOLEV Ivan (IHI Hauzer Techno Coating, Venlo, NLD) ,  ZHAO Hongyuan (Univ. Leeds, Leeds, GBR)
Material： Journal of Tribology  (Transactions of the ASME. Journal of Tribology)
Volume： 138  Issue： 3  Page： 031301.1-031301.6  Publication year： Jul. 2016 
JST Material Number： B0901A  ISSN： 0742-4787  CODEN： JOTRE9  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,  plasma ,  *diamond-like carbon ,  *thin film ,  property ,  characteristic ,  *microwave plasma ,  *tribology characteristic

JST classification (2)： Lubrication in general  (QB02010S) ,  Vapor plating  (WC08022K)

Terms in the title (9)： マイクロウェーブ ,  励起 ,  プラズマ ,  強化 ,  化学蒸着法 ,  ダイヤモンドライクカーボン ,  薄膜 ,  トライボロジー特性 ,  基板バイアス