デンプンの流動層造粒における高電場の利用

SOTOME ITARU; TSUDA SHOKO; OKADOME HIROSHI; OKUNISHI TOMOYA; ANDO YASUMASA

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J-GLOBAL ID：201602270688319925 Reference number：16A0865641

デンプンの流動層造粒における高電場の利用

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Volume： 63rd Page： 118 Publication year： Aug. 25, 2016
JST Material Number： Y0057A ISSN： 2759-3843 Document type： Proceedings
Article type：短報 Country of issue： Japan (JPN) Language： JAPANESE (JA)

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