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J-GLOBAL ID:201603000569106193
排ガス浄化触媒及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (5):
青木 篤
, 鶴田 準一
, 古賀 哲次
, 関根 宣夫
, 河野上 正晴
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2014242614
Publication number (International publication number):2016101570
Application date: Nov. 28, 2014
Publication date: Jun. 02, 2016
Summary:
【課題】本発明によれば、低温活性、高選択性、及び/又は高被毒耐性と、高耐久性とを備えた排ガス浄化触媒及びその製造方法を提供することができる。【解決手段】本発明の排ガス浄化触媒は、シリコン及びシリコンの表面に担持された白金クラスターを有する。さらに、本発明の排ガス浄化触媒では、シリコンの表面の白金クラスターが担持されていない部分に一原子層の酸化被膜が形成され、白金クラスターに含有されている白金原子の個数が20個〜1000個である。【選択図】図1
Claim (excerpt):
シリコン及び前記シリコンの表面に担持された白金クラスターを有する排ガス浄化触媒であって、
前記シリコンの表面のうちの前記白金クラスターが担持されていない部分に一原子層の酸化被膜が形成され、
前記白金クラスターに含有されている白金原子の個数が、20個〜1000個である、
排ガス浄化触媒。
IPC (6):
B01J 23/42
, B01J 37/34
, B01J 37/02
, B01J 37/14
, B01D 53/94
, F01N 3/10
FI (6):
B01J23/42 A
, B01J37/34
, B01J37/02 301P
, B01J37/14
, B01D53/36 104A
, F01N3/10 A
F-Term (30):
3G091BA11
, 3G091BA39
, 3G091FC07
, 3G091GB06W
, 3G091GB17X
, 4D048AA06
, 4D048AA13
, 4D048AA18
, 4D048AB05
, 4D048AC06
, 4D048BA06X
, 4D048BA30X
, 4D048BA41X
, 4G169AA03
, 4G169BA02A
, 4G169BC75A
, 4G169BC75B
, 4G169BD05A
, 4G169BD05B
, 4G169CA02
, 4G169CA03
, 4G169CA09
, 4G169DA05
, 4G169EC28
, 4G169EE06
, 4G169FA02
, 4G169FB02
, 4G169FB40
, 4G169FB58
, 4G169FC08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
ナノ構造物
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-517799
Applicant:ウニベルジテートウルム
-
触媒活性を高める表面構造
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2003-583629
Applicant:ヒューレット-パッカードデベロップメントカンパニーエル.ピー.
-
光触媒粒子、および該光触媒粒子を含有した塗料、並びに光触媒粒子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-134301
Applicant:アルティス株式会社, 三宅淳史
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