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J-GLOBAL ID:201603003306179284
テラヘルツイメージング装置、テラヘルツ画像からの干渉パターン除去方法及びプログラム
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (2):
池田 憲保
, 佐々木 敬
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2012085471
Publication number (International publication number):2013217649
Patent number:5999474
Application date: Apr. 04, 2012
Publication date: Oct. 24, 2013
Claim (excerpt):
【請求項1】 干渉パターンが発生するコヒーレンシを有するテラヘルツ光を発する光源と、
前記光源からのテラヘルツ光を照射したサンプルを撮像するためのテラヘルツ光を撮影可能な撮像素子と、
前記サンプルが載置されて、前記光源の光軸方向に対して実質的に垂直な平面内で前記サンプルを移動させるステージと、
前記ステージ上の前記サンプルに前記光源からテラヘルツ光を照射して、前記撮像素子にて、前記サンプルの点Sを含む領域R1を撮像して生成した画像G1と、前記領域R1を撮像した位置から距離Lだけ移動した前記ステージ上の前記サンプルに前記光源からテラヘルツ光を照射して、前記撮像素子にて、前記点Sを含み、かつ、前記領域R1から前記距離Lだけ離れた領域R2を撮像して生成した画像G2とに対し、予め定められた二項演算を施して一の画像Vを生成するための画像処理装置と
を備え、
前記二項演算は、前記画像G1と前記画像G2との間の差を求める演算である
ことを特徴とするテラヘルツイメージング装置。
IPC (2):
G01N 21/3581 ( 201 4.01)
, G01N 21/84 ( 200 6.01)
FI (2):
G01N 21/358
, G01N 21/84 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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表面欠陥検査装置および表面欠陥検出方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-152643
Applicant:株式会社SUMCO
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画像変位測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-170193
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
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検出装置、及びイメージング装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-092831
Applicant:キヤノン株式会社
Article cited by the Patent:
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