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J-GLOBAL ID:201603004271186971

含窒素化合物含有水の処理装置、および、含窒素化合物含有水の処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 瀧野 秀雄 ,  川崎 隆夫 ,  瀧野 文雄 ,  津田 俊明 ,  鳥野 正司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2014258428
Publication number (International publication number):2016117027
Application date: Dec. 22, 2014
Publication date: Jun. 30, 2016
Summary:
【課題】曝気処理なしで、水中の含窒素化合物中の窒素の酸化処理、および、水中の硝酸イオンや亜硝酸イオンの還元処理を同時に並行して行うことが可能な含窒素化合物含有水の処理装置、および、含窒素化合物含有水の処理方法を提供する。【解決手段】含窒素化合物と、細胞外電子伝達能を有する微生物と、炭酸イオンおよび/または重炭酸イオンと、を含有する第一の水が内部に収納され、かつ、前記第一の水と接触する第一の電極を有する硝化反応槽と、硝酸イオンおよび/または亜硝酸イオンと、脱窒菌と、を含有する第二の水が内部に収納され、かつ、前記第二の水と接触する第二の電極を有する脱窒反応槽と、を備え、前記硝化反応槽と前記脱窒反応槽とがプロトンが透過可能な仕切りを介して接続されており、かつ、前記第一の電極と前記第二の電極とが電気的に接続されている含窒素化合物含有水の処理装置。【選択図】図1
Claim (excerpt):
含窒素化合物と、細胞外電子伝達能を有する微生物と、炭酸イオンおよび/または重炭酸イオンと、を含有する第一の水が内部に収納され、かつ、前記第一の水と接触する第一の電極を有する硝化反応槽と、 硝酸イオンおよび/または亜硝酸イオンと、脱窒菌と、を含有する第二の水が内部に収納され、かつ、前記第二の水と接触する第二の電極を有する脱窒反応槽と、を備え、 前記硝化反応槽と前記脱窒反応槽とがプロトンが透過可能な仕切りを介して接続されており、かつ、 前記第一の電極と前記第二の電極とが電気的に接続されていることを特徴とする含窒素化合物含有水の処理装置。
IPC (1):
C02F 3/34
FI (2):
C02F3/34 101B ,  C02F3/34 101A
F-Term (13):
4B065AA01X ,  4B065AC20 ,  4B065BA22 ,  4B065BA30 ,  4B065BB02 ,  4B065BB12 ,  4B065BD22 ,  4B065BD32 ,  4B065CA54 ,  4D040BB02 ,  4D040BB52 ,  4D040BB65 ,  4D040BB91
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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