Pat
J-GLOBAL ID：201603008703404342
ナノインプリント用複製モールド
Inventor：
,
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
家入 健
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2011226695
Publication number (International publication number)：2013086294
Patent number：5879086
Application date： Oct. 14, 2011
Publication date： May. 13, 2013
Claim (excerpt)：
【請求項1】 ナノインプリント用の複製モールドであって、
基体と、
前記基体上に形成され、主成分が無機ナノ粒子と樹脂からなり、表面に凹凸が形成された複製モールド構造体と、を具備し、
前記複製モールド構造体は、
押し込み弾性率が4000N/mm2以上、8500N/mm2未満であり、
線熱膨脹係数が10×10-5K-1未満であり、かつ、
365nmにおける透過率が70%以上である複製モールド。
IPC (3)：
B29C 59/02 ( 200 6.01)
, B29C 33/40 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
B29C 59/02 B
, B29C 33/40
, H01L 21/30 502 D
