液中プラズマ発生装置、被処理液浄化装置及びイオン含有液体生成装置

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：三木久巳
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2012081750
Publication number (International publication number)：2013211204
Patent number：6008359
Application date： Mar. 30, 2012
Publication date： Oct. 10, 2013
Claim (excerpt)：

【請求項1】液体が供給される無数の連通孔を有する多孔質誘電体と、前記多孔質誘電体を密封状に収納して前記液体の漏洩を防止する収納壁と、前記連通孔の内部に放電を発生させる為の2つ以上の電極と、前記電極に電圧を印加する電源と、外部から前記連通孔へ前記液体を供給する導入部と、前記連通孔から前記液体を外部へ排出する導出部からなり、前記導入部は導電性物質から形成される導電性導入部から構成され、前記導電性導入部の先端は前記多孔質誘電体に埋め込まれ、且つこの埋め込まれた部分に多数の導入孔が穿孔され、前記導入孔から前記多孔質誘電体に前記液体が供給され、前記多孔質誘電体に電圧を印加して前記連通孔の内部に発熱及び放電を発生させ、前記発熱により前記連通孔内で前記液体を気化して液体由来ガスを生成し、前記放電により前記連通孔内で前記液体由来ガスをプラズマ化して液体由来プラズマを生成することを特徴とする液中プラズマ発生装置。

IPC (2)：

H05H 1/24 ( 200 6.01) , C02F 1/48 ( 200 6.01)

FI (2)：

H05H 1/24 , C02F 1/48 B

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

冷蔵庫
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-034008 Applicant：株式会社東芝
光触媒反応装置および光触媒反応方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-325611 Applicant：株式会社東芝
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-229536 Applicant：セイコーエプソン株式会社

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Cited by examiner (5)

冷蔵庫
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