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J-GLOBAL ID：201603012877152978

多孔性配位高分子複合体およびその製造方法

Inventor：
松山 清

About 松山 清


Applicant, Patent owner：
独立行政法人国立高等専門学校機構

About 独立行政法人国立高等専門学校機構


Agent (3)： 加藤 久 ,  久保山 隆 ,  遠坂 啓太
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014141597
Publication number (International publication number)：2016017055
Application date： Jul. 09, 2014
Publication date： Feb. 01, 2016
Summary：
【課題】 多孔性配位高分子に医薬品化合物や化粧品化合物、触媒前駆体等の有効物質を高濃度で含浸させた多孔性配位高分子複合体の製造方法を提供する。【解決手段】 多孔性配位高分子を溶媒中で合成する多孔性配位高分子の合成工程と、前記合成工程で合成された多孔性配位高分子を超臨界二酸化炭素により乾燥することで細孔維持された多孔性配位高分子を得る乾燥工程と、前記乾燥工程で得られた細孔維持された多孔性配位高分子と有効物質とを混合した混合物質を、二酸化炭素および有機溶媒の混合流体により処理することで、前記細孔維持された多孔性配位高分子に、前記有効物質を含浸させる含浸工程とを有することを特徴とする有効物質を多孔性配位高分子に高濃度で含浸させた多孔性配位高分子複合体の製造方法。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
多孔性配位高分子を溶媒中で合成する多孔性配位高分子の合成工程と、 前記合成工程で合成される多孔性配位高分子を超臨界二酸化炭素により乾燥することで細孔維持された多孔性配位高分子を得る乾燥工程と、 前記乾燥工程で得られる細孔維持された多孔性配位高分子と有効物質とを混合した混合物質を、超臨界二酸化炭素および有機溶媒の混合流体により処理することで、前記細孔維持された多孔性配位高分子に、前記有効物質を含浸させる含浸工程とを有することを特徴とする 有効物質を多孔性配位高分子に高濃度で含浸させた多孔性配位高分子複合体の製造方法。
IPC (3)：
C07C 57/30 ,  C07C 63/28 ,  C07C 63/307
FI (3)：
C07C57/30 ,  C07C63/28 ,  C07C63/307
F-Term (36)：
4C076AA37 ,  4C076AA38 ,  4C076AA39 ,  4C076AA95 ,  4C076CC01 ,  4C076DD21M ,  4C076EE15M ,  4C076FF31 ,  4C076GG08 ,  4C076GG14 ,  4C076GG22 ,  4C206AA10 ,  4C206DA24 ,  4C206MA55 ,  4C206NA13 ,  4C206NA20 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB20 ,  4H006AB21 ,  4H006AB22 ,  4H006AC47 ,  4H006AC90 ,  4H006AC93 ,  4H006AD17 ,  4H006BB11 ,  4H006BB14 ,  4H006BB16 ,  4H006BE41 ,  4H006BJ50 ,  4H006BS30 ,  4H006BS70 ,  4H050AA01 ,  4H050AA02 ,  4H050AB20 ,  4H050WB13
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

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