剥離された無欠陥、未酸化の2次元材料を大量に製造するためのスケーラブルなプロセス

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：山本秀策 , 森下夏樹 , 飯田貴敏 , 石川大輔 , 山本健策
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2015562238
Publication number (International publication number)：2016515090
Application date： Mar. 14, 2014
Publication date： May. 26, 2016
Summary：

2次元材料を製造するために、未処理3次元材料を剥離するプロセスであって、未処理3次元材料を液体に混合して、混合物を得る工程;該混合物に剪断力を付与して、3次元材料を剥離し、溶液中に分散剥離2次元材料を製造する工程;および該分散剥離2次元材料が溶液中で遊離かつ非凝集状態を維持するように、該混合物に付与した該剪断力を除去する工程を含むプロセス。一実施形態において、2次元材料を製造するために、未処理3次元層状材料を剥離するプロセスが提供され、前記プロセスは未処理3次元層状材料を液体に混合して、混合物を得る工程;および該混合物に剪断力を付与して、3次元層状材料を剥離し、溶液中で遊離かつ非凝集状態の剥離分散2次元材料を製造する工程を含む。

Claim (excerpt)：

2次元材料を製造するために、未処理3次元層状材料を剥離するプロセスであって、該プロセスは、該未処理3次元層状材料を液体に混合して、混合物を得る工程; 該混合物に剪断力を付与して、3次元層状材料を剥離し、溶液中に分散剥離2次元材料を製造する工程;および分散剥離2次元材料が溶液中で遊離かつ非凝集状態を維持するように、該混合物に付与した該剪断力を除去する工程を含む、プロセス。

IPC (4)：

C01B 31/02 , C08L 101/00 , C08L 21/00 , C08K 3/04

FI (4)：

C01B31/02 101Z , C08L101/00 , C08L21/00 , C08K3/04

F-Term (39)：

4G146AA01 , 4G146AB07 , 4G146AC01B , 4G146AC16B , 4G146AD03 , 4G146AD23 , 4G146AD24 , 4G146AD26 , 4G146AD28 , 4G146AD37 , 4G146CB07 , 4G146CB10 , 4G146CB15 , 4G146CB19 , 4G146CB21 , 4G146CB35 , 4G146DA07 , 4J002AA001 , 4J002AA011 , 4J002AA021 , 4J002AB021 , 4J002AC021 , 4J002AC031 , 4J002AC081 , 4J002BB031 , 4J002BB121 , 4J002BB151 , 4J002BC021 , 4J002BC051 , 4J002BD041 , 4J002BD101 , 4J002BD151 , 4J002BE041 , 4J002BF021 , 4J002BG061 , 4J002CG001 , 4J002DA026 , 4J002GH00 , 4J002GQ00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

プラスチックをコーティングするためのナノクレーで改質された水系組成物、およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-099597 Applicant：ロームアンドハースカンパニー
グラフェン含有懸濁液、その製造方法、グラフェンフレークおよびその使用
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2015-534995 Applicant：エッカルトゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング, ビック-ケミーゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

Preparation of graphene by exfoliation of graphite using wet ball milling

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