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J-GLOBAL ID:201603018376884071

直鎖型温度応答性高分子が固定化された温度応答性細胞培養基材、及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 小野 新次郎 ,  小林 泰
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2015202124
Publication number (International publication number):2016073281
Application date: Oct. 13, 2015
Publication date: May. 12, 2016
Summary:
【課題】医学、生物学、生化学等の分野において有用な細胞を効率良く接着、増殖させ、さらに温度変化だけでその培養細胞を効率良く剥離できる温度応答性細胞培養基材、およびその製造方法の提供。【解決手段】基材表面に分子量が10000〜150000の非架橋の温度応答性高分子が0.02〜0.3分子鎖/nm2の割合で固定化されている温度応答性細胞培養基材を作製し、温度応答性細胞培養基材を利用して、各組織から得られた細胞を効率良く培養でき、この培養方法を利用すれば、温度を変えるだけで損傷なく、効率良く細胞シートを剥離することができる細胞を培養する方法。【選択図】なし
Claim (excerpt):
基材表面に分子量が10000〜150000の非架橋の温度応答性高分子が0.02〜0.3分子鎖/nm2の割合で固定化されている、温度応答性細胞培養基材。
IPC (3):
C12M 3/00 ,  C08F 2/00 ,  C08F 292/00
FI (3):
C12M3/00 A ,  C08F2/00 C ,  C08F292/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent:
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