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J-GLOBAL ID：201702215542696851   Reference number：17A0437302

低アスペクト比マイクロポアデバイスを用いた単一粒子検出

Author (3)： ARIMA AKIHIDE (大阪大 産科研) ,  TSUTSUI MAKUSU (大阪大 産科研) ,  TANIGUCHI MASATERU (大阪大 産科研)
Material： 分子科学討論会講演プログラム&要旨(Web)  (Program & Abstract. Annual Meeting of Japan Society for Molecular Science (Web))
Volume： 7th  Page： ROMBUNNO.4P041 (WEB ONLY)  Publication year： 2013 
JST Material Number： U0350A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： aspect ratio ,  *pore ,  *ion current ,  *particle ,  *measurement ,  *silicon nitride ,  compound semiconductor ,  substrate (plate) ,  silicon ,  semiconductor thin film ,  RIE ,  polydimethylsiloxane ,  low aspect ratio ,  *Nanopores ,  *single particle
Semi thesaurus term： reactive ion etching ,  マイクロポア

JST classification (1)： Particle optics in general  (BD02010J)

Terms in the title (2)： 低アスペクト比 ,  粒子検出