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J-GLOBAL ID：201702222524714633   Reference number：17A1449605

光触媒TiO₂薄膜への加熱を伴うO₂DBDプラズマ処理効果

Author (6)： KAWAKAMI RETSUO (徳島大) ,  NIIBE MASAHITO (兵庫県大 高度研) ,  NAKANO YOSHITAKA (中部大) ,  YOSHITANI YUKI (徳島大) ,  AZUMA CHISATO (徳島大) ,  MUKAI TAKASHI (日亜化学)
Material： 電気関係学会四国支部連合大会講演論文集(CD-ROM)  (Shikoku-Section Joint Convention Record of the Institutes of Electrical and Related Engineers (CD-ROM))
Volume： 2017  Page： ROMBUNNO.2-15  Publication year： Sep. 16, 2017 
JST Material Number： L1738B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *photocatalyst ,  *ceramic membrane ,  *heating ,  *Oxygen ,  *silent discharge ,  *plasma treatment ,  surface treatment ,  annealing (heat treatment) ,  atmospheric pressure ,  Pressure ,  gas pressure ,  *titanium oxide thin film
Semi thesaurus term： *TiO2 film

JST classification (3)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Applications of plasma  (BJ02110K) ,  Gas discharges  (BJ03020T)

Terms in the title (4)： 光触媒 ,  TiO2 ,  薄膜 ,  プラズマ処理