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J-GLOBAL ID：201702233819530968   Reference number：17A0547356

スパッタリング法による(Cr_xFe_1-x)₂O₃薄膜およびCr₂O₃/Fe₂O₃積層膜の作製及び結晶構造解析

Author (8)： FUKUI SHINJIRO (日本大 理工) ,  SUMIDA TAKASHI (日本大 理工) ,  HASHIMOTO KOSUKE (日本大 理工) ,  HIRATO TSUYOSHI (日本大 理工) ,  YANAGIHARA YASUHIRO (日本大 理工) ,  NAGATA TOMOKO (日本大 理工) ,  YAMAMOTO HIROSHI (日本大 理工) ,  IWATA NOBUYUKI (日本大 理工)
Material： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
Volume： 64th  Page： ROMBUNNO.14a-213-10  Publication year： Mar. 01, 2017 
JST Material Number： Y0054B  ISSN： 2436-7613  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *chromium oxide ,  *iron additive alloy ,  *iron oxide ,  *sputtering ,  *multilayer film ,  *manufacturing ,  *crystal structure analysis ,  substrate (plate) ,  lattice match ,  X-Ray Diffraction ,  sapphire substrate ,  *thin film manufacturing
Semi thesaurus term： XRD ,  *multilayer

JST classification (3)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Crystal growth of oxides  (BK13050I) ,  Crystal structure of other inorganic compounds  (BK07030J)

Terms in the title (7)： スパッタリング法 ,  薄膜 ,  Cr2O3 ,  Fe2O3 ,  積層膜 ,  作製 ,  結晶構造解析