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J-GLOBAL ID：201702240119754490   Reference number：17A1975539

磁場-パルスプラズマ援用化学気相成長法におけるパルスパラメータ変化がHMDSNの窒化に及ぼす影響

Author (3)： MURANO MASANORI (近畿大 大学院総合理工学研究科) ,  MATSUTANI TAKAOMI (近畿大 大学院総合理工学研究科) ,  KAWASAKI TADAHIRO (ファインセラミックスセ)
Material： 電気関係学会関西連合大会講演論文集(CD-ROM)
Volume： 2017  Page： ROMBUNNO.P-15  Publication year： Nov. 06, 2017 
JST Material Number： L2273B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *transmission electron microscope ,  diaphragm (membrane) ,  *membrane and film ,  *ion nitriding ,  chemical vapor deposition ,  permanent magnet ,  *amorphous film ,  *modification
Semi thesaurus term： *amorphous film ,  neodymium magnet ,  chemical vapor deposition

JST classification (1)： Electron and ion microscopes  (BD02050B)

Terms in the title (7)： 磁場 ,  パルスプラズマ ,  援用 ,  化学気相成長法 ,  パルス ,  パラメータ ,  窒化