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J-GLOBAL ID：201702241906171208   Reference number：17A0565721

微細加工で作るフィールドエミッタアレイ~新しい応用に向けて~

Author (1)： NAGAO MASAYOSHI (産業技術総合研究所)
Material： Journal of the Vacuum Society of Japan  (真空)
Volume： 60  Issue： 2  Page： 47-54(J-STAGE)  Publication year： 2017 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 1882-2398  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *electrode ,  *array ,  silicon ,  *emitter ,  *fine patterning ,  carbide ,  hafnium compound ,  *covering ,  electron emission ,  *lifetime ,  photoelectric device ,  X-ray inspection ,  *radiation resistance (radiation effect) ,  imager
Semi thesaurus term： X-ray photography ,  *gate electrode ,  スピント型FEA ,  *field emitter array ,  medical services ,  集束電極

JST classification (2)： Thermoionic emission and field emission  (BM09020S) ,  Electron and ion sources  (BD02020U)

Reference (58)：

• 1) C. A. Spindt: J. Appl. Phys., 39 (1968) 3504.
• 2) R. N. Thomas, R. A. Wickstrom, D. K. Schroder and H. C. Nathanson: Solid-State Electronics, 17 (1974) 155.
• 3) K. Betsui: Technical Digest of the 4th International Vacuum Microelectronics Conference, Nagahama, 1991 (BCASJ, Osaka, 1991) p.26.
• 4) R. B. Marcus, T. S. Ravi, T. Gmitter, K. Chin, D. Liu, W. J. Orvis, D. R. Ciarlo, C. E. Hunt and J. Trujillo: Appl. Phys. Lett., 56 (1990) 236.
• 5) M. Urayama, T. Ise, Y. Maruo, A. Kishi, R. Imamoto and T. Takase: Jpn. J. Appl. Phys., 32 (1993) 6293.

Terms in the title (3)： 微細加工 ,  フィールドエミッタアレイ ,  応用