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J-GLOBAL ID：201702267180300569   Reference number：17A1802769

Effect of interfacial water formed between graphene and SiO₂/Si substrate

グラフェンとSiO₂/Si基板間に形成される界面水の影響

Author (7)： KOYAMA Tomohiro (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  INABA Takumi (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  KOMATSU Katsuyoshi (National Inst. for Materials Sci. (NIMS), Ibaraki, JPN) ,  KOMATSU Katsuyoshi (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  MORIYAMA Satoshi (National Inst. for Materials Sci. (NIMS), Ibaraki, JPN) ,  SHIMIZU Maki (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  HOMMA Yoshikazu (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
Material： Applied Physics Express  (APEX)
Volume： 10  Issue： 7  Page： 075102.1-075102.3  Publication year： Jul. 2017 
JST Material Number： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *air ,  *graphene ,  silicon dioxide ,  substrate(plate) ,  silicon ,  doping ,  positive hole ,  Raman spectrum ,  *water molecule ,  group(radical) ,  silanol ,  effect ,  hydrophobic interaction
Semi thesaurus term： ambient air ,  hole doping ,  silanol group ,  hydrophobic effect

JST classification (3)： Infrared and Raman spectra of inorganic molecules  (BH06032B) ,  Carbon and its compounds  (YB02060D) ,  Atomic and molecular clusters  (BH09030O)

Reference (19)：

• K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, Y. Zhang, S. V. Dubonos, I. V. Grigorieva, and A. A. Firsov, Science 306, 666 (2004).
• A. K. Geim and K. S. Novoselov, Nat. Mater. 6, 183 (2007).
• K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, M. I. Katsnelson, I. V. Grigorieva, S. V. Dubonos, and A. A. Firsov, Nature 438, 197 (2005).
• Y. Zhang, Y.-W. Tan, H. L. Stormer, and P. Kim, Nature 438, 201 (2005).
• J. Jobst, D. Waldmann, F. Speck, R. Hirner, D. K. Maude, T. Seyller, and H. B. Weber, Phys. Rev. B 81, 195434 (2010).

Terms in the title (4)： グラフェン ,  SiO2 ,  Si基板 ,  界面