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J-GLOBAL ID：201702270886801295   Reference number：17A1090444

Metrology Capabilities and Needs for 7nm and 5nm Logic Nodes

7nmおよび5nmロジックノードの計測機能と必要性

Author (5)： BUNDAY Benjamin (GLOBALFOUNDRIES, NY, USA) ,  SOLECKY Eric (GLOBALFOUNDRIES, NY, USA) ,  VAID Alok (GLOBALFOUNDRIES, NY, USA) ,  BELLO A. F. (GLOBALFOUNDRIES, NY, USA) ,  DAI Xintuo (GLOBALFOUNDRIES, NY, USA)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 10145  Issue： Pt.1  Page： 101450G.1-101450G.41  Publication year： 2017 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 解説  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： logic circuit ,  *semiconductor process ,  measurement ,  *length ,  defect ,  scanning electron microscope ,  X-ray ,  superposition ,  *lithography ,  mass production ,  atomic force microscope ,  electron microscopy ,  X-ray diffraction
Semi thesaurus term： *critical dimension ,  *microlithography ,  光CD

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (3)： ロジック ,  ノード ,  計測