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J-GLOBAL ID：201702275079440225   Reference number：17A1386176

Conductive diamond-like carbon films prepared by high power pulsed magnetron sputtering with bipolar type plasma based ion implantation system

バイポーラ型プラズマベースイオン注入システムを用いた高出力パルスマグネトロンスパッタリングにより作製した導電性ダイヤモンド状炭素膜【Powered by NICT】

Author (4)： Nakao Setsuo (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Japan) ,  Kimura Takashi (Nagoya Institute of Technology, Japan) ,  Suyama Taku (Nagoya Institute of Technology, Japan) ,  Azuma Kingo (University of Hyogo, Japan)
Material： Diamond and Related Materials  (Diam Relat Mater)
Volume： 77  Page： 122-130  Publication year： 2017 
JST Material Number： W0498A  ISSN： 0925-9635  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： Diamond-like carbon (DLC) film...

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Thesaurus term： *conductive property ,  Raman spectroscopy ,  cluster ,  *diamond-like carbon ,  DLC film ,  *ion implantation ,  hardness ,  micro structure ,  *plasma ,  *pulse ,  mechanical property ,  electrical resistivity ,  both poles ,  *high power output ,  property
Semi thesaurus term： パルス電圧 , 【Automatic Indexing@JST】

Author keywords (6)： Diamond-like carbon ,  High power pulsed magnetron sputtering ,  Bipolar pulse voltage ,  Plasma based ion implantation ,  Electrical resistivity ,  Positive pulse power

JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Carbon and its compounds  (YB02060D)

Terms in the title (9)： バイポーラ ,  プラズマ ,  イオン注入 ,  高出力 ,  パルス ,  マグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  導電性 ,  ダイヤモンド状炭素