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J-GLOBAL ID:201703004135984381
ナノ構造体を表面に備える基板の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (4):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 五十嵐 光永
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2012557987
Patent number:6090777
Application date: Feb. 15, 2012
Claim (excerpt):
【請求項1】 複数種類のブロックが結合したブロックコポリマーを含む層を基板上に形成した後、当該層を加熱し、当該層を相分離させる相分離工程と、
前記層のうち、前記ブロックコポリマーを構成する複数種類のブロックのうちの少なくとも一種類のブロックからなる相の少なくとも一部を分解する分解工程と、
前記層を現像液に浸漬させ、前記分解工程において分解されたブロックを含む相を選択的に除去する選択的除去工程と、
を有し、
前記現像液が、SP値が7.5〜11.5(cal/cm3)1/2であり、かつ25°Cにおける蒸気圧が2.1kPa未満である有機溶媒、ベンゼン、及びトルエンからなる群より選択される1種以上を含むことを特徴とする、ナノ構造体を表面に備える基板の製造方法。
IPC (2):
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, B82Y 40/00 ( 201 1.01)
FI (2):
H01L 21/30 502 D
, B82Y 40/00
Patent cited by the Patent:
Article cited by the Patent: