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J-GLOBAL ID：201703008183655220

透明光学材料の改質方法、光デバイス、光デバイスの製造方法、及び光デバイスの製造装置

Inventor： 加藤 覚 ,  長谷川 和男 ,  米村 正寿
Applicant, Patent owner： 株式会社豊田中央研究所
Agent (2)： 中島 淳 ,  加藤 和詳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2016068692
Publication number (International publication number)：2017181777
Application date： Mar. 30, 2016
Publication date： Oct. 05, 2017
Summary：

【課題】希土類元素が添加された透明光学材料を高屈折率化する新たな改質方法を提供する。希土類元素が添加された透明光学材料内に当該透明光学材料より屈折率が高い高屈折率領域が形成された光デバイスを提供する。この光デバイスを製造する製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】希土類元素が添加された透明光学材料に、超短パルスレーザ光を照射して、照射部分の透明光学材料を高屈折率化する。この改質方法を用いて、希土類元素が添加された透明光学材料内に、当該透明光学材料より屈折率が高い高屈折率領域が周期的に設けられた光デバイスを作製する。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

希土類元素が添加された透明光学材料に、超短パルスレーザ光を照射して、照射部分の透明光学材料を高屈折率化する、透明光学材料の改質方法。

IPC (4)：

G02B 6/02 ,  B23K 26/53 ,  H01S 3/067 ,  H01S 3/00

FI (4)：

G02B6/02 416 ,  B23K26/53 ,  H01S3/067 ,  H01S3/00 B

F-Term (31)：

2H150AB14 ,  2H150AD34 ,  2H150AG02 ,  2H150AG38 ,  2H150AG66 ,  2H150AG67 ,  2H150AH33 ,  4E168AE02 ,  4E168CB07 ,  4E168DA02 ,  4E168DA03 ,  4E168DA32 ,  4E168DA40 ,  4E168DA46 ,  4E168DA47 ,  4E168FD01 ,  4E168JA11 ,  4E168JA14 ,  4E168JA15 ,  4E168JA17 ,  4E168JA21 ,  4E168JB05 ,  5F172AE13 ,  5F172AF02 ,  5F172AF03 ,  5F172AF05 ,  5F172AF06 ,  5F172AM08 ,  5F172EE15 ,  5F172NQ34 ,  5F172ZZ01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 光アクティブ伝送路及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-169772   Applicant：日立電線株式会社
• グレーティング付き光ファイバの作製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-299810   Applicant：科学技術振興事業団, 野内健太郎, 近藤裕己

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• "Femtosecond direct-writing of low-loss fiber Bragg gratings using a continuous core-scanning techn