高速応答性フォトリフラクティブポリマー素子

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2014534252
Patent number：6214006
Application date： Aug. 06, 2013
Claim (excerpt)：

【請求項1】絶縁基板と、前記絶縁基板の片面上に形成された透明電極と、前記透明電極の内表面に形成されると共に、単一層の単分子膜又は複数層の単分子膜であり、かつ前記透明電極のフェルミ準位を制御して暗電流を抑制する暗電流制御層と、前記絶縁基板上で前記透明電極及び前記暗電流制御層を介して設けられ、下記式(1)で表されるフォトリフラクティブポリマーを主成分としているフォトリフラクティブ複合材料と、を備えることを特徴とする高速応答性フォトリフラクティブポリマー素子。

IPC (2)：

G02F 1/361 ( 200 6.01) , G03H 1/02 ( 200 6.01)

FI (2)：

G02F 1/361 , G03H 1/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

ホログラム記録素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-020518 Applicant：国立大学法人長岡技術科学大学
オフセット上部画素電極構成
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2011-506778 Applicant：プラスティックロジックリミテッド

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

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