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J-GLOBAL ID：201703013370381910

分析装置用ポリマー膜、分析装置、分析装置用基板、分析装置用ポリマー膜の製造方法、および分析装置用基板の製造方法

Inventor：
藤田 悠二

About 藤田 悠二

, 
天谷 諭

About 天谷 諭


Applicant, Patent owner：
TOWA株式会社

About TOWA株式会社


Agent (1)： 特許業務法人深見特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2016078015
Publication number (International publication number)：2017187443
Application date： Apr. 08, 2016
Publication date： Oct. 12, 2017
Summary：
【課題】Si基板等の基板から分離して使用可能であり、ナノポアの開口の歪みを低減する。【解決手段】分析装置用ポリマー膜は、ナノポア(12)が設けられたポリマー膜(11)を備えている。ナノポア(12)は、ポリマー膜(11)の表面(11a,11b)に設けられた開口(12a,12b)と、開口(12a,12b)からポリマー膜(11)を貫通するように設けられた内壁(12c)とを備えている。開口(12a,12b)の最小円(14)の直径に対する最大円(13)の直径の比が1.274以下である。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
ポリマー膜を備え、 前記ポリマー膜には、ナノポアが設けられており、 前記ナノポアは、前記ポリマー膜の表面に設けられた開口と、前記開口から前記ポリマー膜を貫通するように設けられた内壁とを備え、 前記開口の最小円の直径に対する最大円の直径の比が1.274以下である、分析装置用ポリマー膜。
IPC (2)：
G01N 27/00 ,  C12M 1/12
FI (2)：
G01N27/00 Z ,  C12M1/12
F-Term (18)：
2G060AA06 ,  2G060AA15 ,  2G060AD06 ,  2G060AF01 ,  2G060AG06 ,  2G060AG08 ,  2G060AG11 ,  2G060AG15 ,  4B029AA07 ,  4B029BB02 ,  4B029BB13 ,  4B029BB15 ,  4B029BB20 ,  4B029CC01 ,  4B029CC02 ,  4B029CC10 ,  4B029CC11 ,  4B029FA15
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 少なくとも1の細孔を有するポリマー膜の製造方法
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願2008-510462   Applicant：ソニードイチュラントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
  • 2細孔装置
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願2014-521721   Applicant：ザリージェンツオブザユニバーシティオブカリフォルニア

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