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J-GLOBAL ID:200903013552748786

少なくとも1の細孔を有するポリマー膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 亀谷 美明 ,  金本 哲男 ,  萩原 康司
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2008510462
Publication number (International publication number):2008545518
Application date: May. 04, 2006
Publication date: Dec. 18, 2008
Summary:
本発明は、少なくとも1つの細孔を有するポリマー膜の製造方法、このような方法により製造されたポリマー膜、及び、このようなポリマー膜の用途に関する。このように形成された細孔は、ナノメーターの範囲を有しており、それ故、このような多孔性の膜を単分子検出のための装置に使用することができる。【選択図】なし
Claim (excerpt):
500nm以下の範囲の直径の少なくとも1の細孔を有するポリマー膜の製造方法であって、 a)基板を準備する工程と、 b)前記基板上にポリマー膜を成膜する工程と、 c)前記ポリマー膜をリソグラフィ工程に供した後に、前記ポリマー膜に500nm以下の範囲の直径を有する少なくとも1の細孔を導入し、選択的に複数の前記細孔のアレイを前記ポリマー膜に導入する工程と、 d)前記基板から前記膜を剥離させる工程と、 を含む、ポリマー膜の製造方法。
IPC (1):
B01D 69/00
FI (1):
B01D69/00
F-Term (20):
4D006GA50 ,  4D006MA03 ,  4D006MA07 ,  4D006MA09 ,  4D006MA22 ,  4D006MA27 ,  4D006MA31 ,  4D006MC03 ,  4D006MC09X ,  4D006MC22 ,  4D006MC27 ,  4D006MC37 ,  4D006MC48 ,  4D006MC49 ,  4D006NA31 ,  4D006NA32 ,  4D006NA33 ,  4D006PA04 ,  4D006PB52 ,  4D006PB70
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 国際公開第2002/42496号パンフレット
Cited by examiner (3)

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