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J-GLOBAL ID：201703014056747035

遺伝子導入装置および遺伝子導入方法

Inventor： 金子 俊郎 ,  佐々木 渉太 ,  神崎 展 ,  加藤 俊顕
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東北大学
Agent (2)： 須田 篤 ,  楠 修二
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2014066185
Publication number (International publication number)：WO2014208425
Application date： Jun. 18, 2014
Publication date： Dec. 31, 2014
Summary：

【課題】より高い導入効率で遺伝子を細胞に導入することができる遺伝子導入装置および遺伝子導入方法を提供する。【解決手段】1対の電極13a,13bが、遺伝子とその遺伝子を導入する細胞とを含む遺伝子分散溶液15を収納する収納容器12を挟むよう配置されている。他方の電極13bは、収納容器12に取り付けられている。プラズマ原料供給手段が、一方の電極13aから他方の電極13bに向かって、プラズマ原料のヘリウムガスを供給するようになっている。電源部14が、プラズマ原料が供給された各電極13a,13bの間で低温プラズマを発生させるよう、各電極13a,13b間に電圧を印加するようになっている。収納容器12は、収納された遺伝子分散溶液15に、発生したプラズマが直接当たるよう配置されている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

遺伝子とその遺伝子を導入する細胞とを含む遺伝子分散溶液を収納する収納容器と、 前記収納容器を挟むよう配置された1対の電極と、 一方の電極から他方の電極に向かって、プラズマ原料を供給するプラズマ原料供給手段と、 前記プラズマ原料が供給された各電極間でプラズマを発生させるよう、各電極間に電圧を印加する電源部とを有し、 前記収納容器は、収納された前記遺伝子分散溶液に、発生した前記プラズマが直接当たるよう配置されていることを 特徴とする遺伝子導入装置。

IPC (2)：

C12M 1/00 ,  C12N 15/09

FI (2)：

C12M1/00 A ,  C12N15/00 A

F-Term (15)：

4B024AA20 ,  4B024CA01 ,  4B024CA11 ,  4B024GA11 ,  4B024HA20 ,  4B029AA23 ,  4B029AA24 ,  4B029BB11 ,  4B029CC01 ,  4B029CC02 ,  4B029CC08 ,  4B029DG10 ,  4B029GA02 ,  4B029GB04 ,  4B029GB10