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J-GLOBAL ID：201703016354183317

酸化物薄膜の形成方法および装置

Inventor： 廣瀬 文彦 ,  鹿又 健作
Applicant, Patent owner： 国立大学法人山形大学
Agent (2)： 栗原 浩之 ,  山▲崎▼ 雄一郎
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2014082840
Publication number (International publication number)：WO2015093389
Application date： Dec. 11, 2014
Publication date： Jun. 25, 2015
Summary：

固体基板上に酸化物薄膜を形成する酸化物薄膜の形成方法において、反応容器1内に固体基板3を設置し、固体基板の温度を、0°Cより高く、150°C以下に保持し、反応容器内にテトラキス(エチルメチルアミノ)ハフニウムあるいは、テトラキス(エチルメチルアミノ)ジルコニウムを含む有機金属ガスを充満させる工程と、前記有機金属ガスを前記反応容器から排気するか又は前記反応容器内に不活性ガスを充満させる工程と、酸素と水蒸気とを含むガスをプラズマ化して酸素及び水蒸気を励起したプラズマガスを生成し、当該プラズマガスを前記反応容器に導入する工程と、前記反応容器からプラズマガスを排気するか又は前記反応容器内に不活性ガスを充満させる工程とを含む一連の工程を繰り返すことにより酸化物薄膜を形成する。

Claim (excerpt)：

固体基板上に酸化物薄膜を形成する酸化物薄膜の形成方法において、反応容器内に固体基板を設置し、固体基板の温度を、0°Cより高く、150°C以下に保持し、反応容器内にテトラキス(エチルメチルアミノ)ハフニウムあるいは、テトラキス(エチルメチルアミノ)ジルコニウムを含む有機金属ガスを充満させる工程と、前記有機金属ガスを前記反応容器から排気するか又は前記反応容器内に不活性ガスを充満させる工程と、酸素と水蒸気とを含むガスをプラズマ化して酸素及び水蒸気を励起したプラズマガスを生成し、当該プラズマガスを前記反応容器に導入する工程と、前記反応容器からプラズマガスを排気するか又は前記反応容器内に不活性ガスを充満させる工程とを含む一連の工程を繰り返すことにより酸化物薄膜を形成することを特徴とする酸化物薄膜の形成方法。

IPC (3)：

H01L 21/316 ,  H01L 21/31 ,  C23C 16/40

FI (3)：

H01L21/316 X ,  H01L21/31 C ,  C23C16/40

F-Term (45)：

4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030AA24 ,  4K030BA10 ,  4K030BA22 ,  4K030BA42 ,  4K030CA04 ,  4K030CA07 ,  4K030EA01 ,  4K030FA01 ,  4K030JA10 ,  4K030JA16 ,  4K030KA39 ,  4K030LA02 ,  4K030LA15 ,  5F045AA08 ,  5F045AA15 ,  5F045AB40 ,  5F045AC00 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045AD04 ,  5F045AD05 ,  5F045AE17 ,  5F045AF02 ,  5F045AF03 ,  5F045AF08 ,  5F045BB07 ,  5F045DP02 ,  5F045DQ10 ,  5F045EE03 ,  5F045EH18 ,  5F045EK07 ,  5F058BA20 ,  5F058BB06 ,  5F058BB10 ,  5F058BC03 ,  5F058BD05 ,  5F058BF04 ,  5F058BF07 ,  5F058BF27 ,  5F058BF29 ,  5F058BF37 ,  5F058BF38 ,  5F058BF39