Pat
J-GLOBAL ID：201703016626648560
細胞培養基材、細胞含有物の作製方法、細胞培養基材の作製方法、細胞観察方法、細胞培養基材のメンテナンス液
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
,
,
Agent (2)：
正林 真之
, 林 一好
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2016101029
Publication number (International publication number)：2017205082
Application date： May. 20, 2016
Publication date： Nov. 24, 2017
Summary：
【課題】耐培養液性に優れ、細胞低毒性であり、かつ、培養した細胞の接着率や生細胞率が高く、熱安定性に優れ、また紫外光を吸収しにくい細胞培養基材を提供すること。【解決手段】無機材料で構成された基板を備える細胞培養基材であって、細胞培養基材は、培養面に複数の凹凸構造を有し、JISB0601及びJISR1683に準拠して原子間力顕微鏡で凹凸構造を測定したときに(測定領域は1μm四方、ローパス用輪郭曲線フィルタのカットオフ値が1nm、ハイパス用輪郭曲線フィルタのカットオフ値が170nmである)、少なくとも1つの方向についての凹凸構造の輪郭曲線要素の長さの平均が1〜170nmである(平均線は、前記ハイパス用輪郭曲線フィルタにより遮断される長波長成分を表す曲線を最小二乗法により直線に補正したとき、その直線と平行かつ、輪郭曲線における高さの累積相対度数分布50%を示す線である)、細胞培養基材。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
無機材料で構成された基板を備える細胞培養基材であって、
前記細胞培養基材は、培養面に複数の凹凸構造を有し、
JISB0601及びJISR1683に準拠して原子間力顕微鏡で前記凹凸構造を測定したときに(測定領域は1μm四方、ローパス用輪郭曲線フィルタのカットオフ値が1nm、ハイパス用輪郭曲線フィルタのカットオフ値が170nmである)、
少なくとも1つの方向についての前記凹凸構造の輪郭曲線要素の長さの平均が1〜170nmである(平均線は、前記ハイパス用輪郭曲線フィルタにより遮断される長波長成分を表す曲線を最小二乗法により直線に補正したとき、その直線と平行かつ、輪郭曲線における高さの累積相対度数分布50%を示す線である)、細胞培養基材。
IPC (4)：
C12M 3/00
, C12N 1/00
, C12M 1/34
, C12N 5/07
C12M3/00 A
, C12N1/00 A
, C12M1/34 B
, C12N5/07
4B029AA08
, 4B029BB11
, 4B029CC02
, 4B029GA01
, 4B029GB09
, 4B029GB10
, 4B065AA87X
, 4B065BC41
, 4B065BC50
, 4B065BD50
Cited by applicant (5)
Show all
Cited by examiner (6)
Show all
Return to Previous Page
