直鎖型温度応答性高分子が固定化された温度応答性細胞培養基材、及びその製造方法

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Applicant, Patent owner：
Agent (2)：小野新次郎 , 小林泰
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2015202124
Publication number (International publication number)：2016073281
Patent number：6206930
Application date： Oct. 13, 2015
Publication date： May. 12, 2016
Claim (excerpt)：

【請求項1】温度応答性細胞培養基材であって、基材表面に分子量が10000〜150000の非架橋の温度応答性高分子が0.02〜0.3分子鎖/nm2の割合で固定化されている、但し、当該温度応答性高分子の固定化程度が0.08分子鎖/nm2以上であること除き、そして当該基材がクロマトグラフィー担体であることを除く、前記温度応答性細胞培養基材。

IPC (3)：

C12M 3/00 ( 200 6.01) , C08F 2/00 ( 200 6.01) , C08F 292/00 ( 200 6.01)

FI (3)：

C12M 3/00 A , C08F 2/00 C , C08F 292/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

温度応答性クロマトグラフィー担体、製造方法及びそれを用いた温度応答性クロマトグラフィー法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-291719 Applicant：岡野光夫
新規コーティング樹脂板
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-244056 Applicant：三菱化学株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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