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J-GLOBAL ID：201703018967133030

細胞培養用基材及びその製造方法

Inventor： 福守 一浩 ,  秋山 義勝 ,  大和 雅之 ,  岡野 光夫
Applicant, Patent owner： 学校法人東京女子医科大学
Agent (3)： 川口 嘉之 ,  佐貫 伸一 ,  丹羽 武司
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2013544365
Patent number：6202621
Application date： Nov. 20, 2012
Claim (excerpt)：

【請求項1】ポリスチレン、ポリカーボネートまたはポリエチレンテレフタレートを素材とする細胞培養基材表面に、濃硫酸に溶解したチオサリチル酸を添加することによりチオキサントンと硫酸基を固定化し、チオキサントンおよび硫酸基が固定化された基材の表面にモノマーを塗布し、モノマーが塗布された基材表面に発光波長のピークが400nm又は400nmより長波長にある光を照射することで当該表面の一部、もしくは全部において当該チオキサントンによりモノマーを重合させて生じる直鎖状ポリマーを固定化させることを特徴とする、細胞培養用基材の製造方法。

IPC (1)：

C12M 3/00 ( 200 6.01)

FI (1)：

C12M 3/00 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 細胞培養支持体並びに細胞培養方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-271627   Applicant：コニカミノルタホールディングス株式会社
• チオキサントンとその誘導体を製造するプロセス
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平9-539119   Applicant：ファースト・ケミカル・コーポレイション
• 特開昭58-079991
  
• 細胞培養用支持体およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-230775   Applicant：富士フイルム株式会社

Cited by examiner (4)

• 細胞培養支持体並びに細胞培養方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-271627   Applicant：コニカミノルタホールディングス株式会社
• 細胞培養用支持体およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-230775   Applicant：富士フイルム株式会社
• チオキサントンとその誘導体を製造するプロセス
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平9-539119   Applicant：ファースト・ケミカル・コーポレイション
• 特開昭58-079991
  

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• J. Photochem. Photobiol. A Chem., 2009, Vol. 202, p. 63-66
• 第32回日本バイオマテリアル学会大会 予稿集, 20101129, p. 234
• 第17回高分子ゲル研究討論会 講演要旨集, 2006, p. 97, 98
• 第55回高分子討論会予稿集, 2006, p. 5487, 5488

Cited by examiner (5)

• J. Photochem. Photobiol. A Chem., 2009, Vol. 202, p. 63-66
• 第32回日本バイオマテリアル学会大会 予稿集, 20101129, p. 234
• 第32回日本バイオマテリアル学会大会 予稿集, 20101129, p. 234
• 第17回高分子ゲル研究討論会 講演要旨集, 2006, p. 97, 98
• 第55回高分子討論会予稿集, 2006, p. 5487, 5488