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J-GLOBAL ID：201802210496293921   Reference number：18A0910833

Porous silicon film formation from silicon-nanoparticle inks: The possibility of effects of van der Waals interactions on uniform film formation

シリコンナノ粒子インクによる多孔質シリコン膜の形成:ファンデルワールス相互作用が均一な膜形成に及ぼす可能性

Author (4)： TANAKA Kazuki (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  NAGOYA Wataru (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  MORIKI Kazuya (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  SATO Seiichi (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 57  Issue： 2S2  Page： 02CC05.1-02CC05.4  Publication year： Feb. 2018 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *nano particle ,  *ink ,  *porous silicon ,  semiconductor thin film ,  *van der Waals force ,  FTIR spectroscopy ,  optical microscope ,  *silicon nanoparticle ,  laser microscope ,  thiol ,  aliphatic carboxylic acid ,  dicarboxylic acid
Semi thesaurus term： *equalizing

JST classification (3)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Inks  (YJ02000N) ,  Intermolecular interactions  (BH07020P)

Substance index (1)： Mercaptosuccinic acid

Terms in the title (7)： シリコンナノ粒子 ,  インク ,  多孔質 ,  シリコン膜 ,  ファンデルワールス相互作用 ,  膜形成 ,  可能性