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J-GLOBAL ID：201802214365458649   Reference number：18A0631430

ミストCVD法によるYSZ基板上のSnO₂薄膜の作製と薄膜構造評価

Author (4)： NIWA YASUYUKI (京大 化研) ,  KAN DAISUKE (京大 化研) ,  KOGANEZAWA TOMOYUKI (JASRI) ,  SHIMAKAWA YUICHI (京大 化研)
Material： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
Volume： 65th  Page： ROMBUNNO.18a-C102-7  Publication year： Mar. 05, 2018 
JST Material Number： Y0054B  ISSN： 2436-7613  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： ceramics ,  yttrium oxide ,  zirconium oxide ,  chemical vapor deposition ,  substrate (plate) ,  *tin oxide ,  *thin film ,  structure ,  YSZ (ceramic)

JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (6)： ミストCVD法 ,  YSZ ,  SnO2 ,  薄膜 ,  作製 ,  構造評価