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J-GLOBAL ID：201802215516866689   Reference number：18A0633465

極薄酸化Ni(111)表面の還元過程:真空およびH₂中加熱の比較

Author (6)： TAGA RYO (東北大 多元物質科研) ,  OGAWA SHUICHI (東北大 多元物質科研) ,  OZAKI TSUKASA (東北大 多元物質科研) ,  YOSHIDA HIKARU (原子力発電技術機構) ,  YOSHIGOE AKITAKA (原子力発電技術機構) ,  TAKAKUWA YUJI (東北大 多元物質科研)
Material： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
Volume： 65th  Page： ROMBUNNO.19p-F214-3  Publication year： Mar. 05, 2018 
JST Material Number： Y0054B  ISSN： 2436-7613  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *nickel oxide ,  *ultrathin film ,  *surface ,  *reduction (reaction) ,  gas ,  *solid surface
Semi thesaurus term： *reduction (reaction) ,  ambient gas

JST classification (2)： Surface structure of solids in general  (BK15010E) ,  Unit process  (XE01040I)

Terms in the title (6)： 酸化 ,  Ni ,  還元 ,  過程 ,  真空 ,  H2