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J-GLOBAL ID：201802221291078932   Reference number：18A0551652

Silver Oxide Films Fabricated by Plasma Assisted Deposition

プラズマアシスト蒸着法による銀酸化物薄膜の形成

Author (1)： ICHINOHE TAKAHISA (東京工業高等専門学校電子工学科)
Material： 表面と真空  (Vacuum and Surface Science)
Volume： 61  Issue： 3  Page： 172-176(J-STAGE)  Publication year： 2018 
JST Material Number： G0194B  ISSN： 2433-5835  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *plasma CVD ,  *silver oxide ,  *thin film ,  Partial Pressure ,  bias ,  oxyecoia partial pressure
Semi thesaurus term： *plasma-assisted CVD ,  body biasing

Author keywords (10)： thin films ,  silver oxide ,  reactive plasma assisted deposition ,  multi capillary ,  ion-assist ,  thin films ,  silver oxide ,  reactive plasma assisted deposition ,  multi capillary ,  ion-assist

JST classification (3)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Oxide thin films  (BK14050P) ,  Applications of plasma  (BJ02110K)

Reference (14)：

• 1) H. Yanagi, S. Inoue, K. Ueda, H. Kawazoe, H. Hosono and N. Hamada : J. Appl. Phys. 88, 4159 (2000).
• 2) S.B. Rivers, G. Bernhardt, M.W. Wright, D.J. Frankel, M.M. Steeves and R.J. Lad : Thin Solid Films 515, 8684 (2007).
• 3) U.K. Barik, S. Srinivasan, C.L. Nagendra and A. Subrahmanyam : Thin Solid Films 429, 129 (2003).
• 4) X.Y. Gao, S.Y. Wang, J. Li, Y.X. Zheng, R.J. Zhang, P. Zhou, Y.M. Yang and L.Y. Chen : Thin Solid Films 455-456, 438 (2004).
• 5) A.A. Schmidt, J. Offermann and R. Anton : Thin Solid Films 281-282, 105 (1996).

Terms in the title (5)： プラズマ ,  アシスト ,  蒸着 ,  銀酸化物 ,  薄膜