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J-GLOBAL ID：201802235458008310   Reference number：18A0633894

急速冷却熱CVDによる巨大単層単結晶WS₂の合成

Author (4)： LI Chao (東北大 大学院) ,  KANEKO TOSHIRO (東北大 大学院) ,  KATO TOSHIAKI (東北大 大学院) ,  KATO TOSHIAKI (JST-さきがけ)
Material： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
Volume： 65th  Page： ROMBUNNO.20a-C202-3  Publication year： Mar. 05, 2018 
JST Material Number： Y0054B  ISSN： 2758-4704  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： rapid quenching ,  *thermal chemical vapor deposition ,  single crystal ,  *crystal growth ,  *tungsten compound ,  *polysulfide (sulfide) ,  *tungsten disulfide

JST classification (1)： Crystal growth of other inorganic compounds  (BK13060T)

Terms in the title (4)： 急速冷却 ,  熱CVD ,  単層 ,  単結晶