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J-GLOBAL ID：201802242787892556   Reference number：18A0054501

酸化Ni表面還元過程のリアルタイム光電子分光観察:真空およびH₂中加熱比較

Author (5)： TAGA RYO (東北大 多元物質科研) ,  OGAWA SHUICHI (東北大 多元物質科研) ,  YOSHIDA HIKARU (原子力発電技術機構) ,  YOSHIGOE AKITAKA (原子力発電技術機構) ,  TAKAKUWA YUJI (東北大 多元物質科研)
Material： 東北大学多元物質科学研究所研究発表会講演予稿集  (Abstracts of Meeting of IMRAM, Tohoku University)
Volume： 17th  Page： 34  Publication year： 2017 
JST Material Number： L7768A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *nickel oxide ,  *reduction (reaction) ,  *ultraviolet photoelectron spectrum ,  Vacuum ,  Hydrogen ,  *surface reaction ,  work function ,  diffusion rate-controlling ,  annealing (heat treatment)

JST classification (1)： Other noncatalytic reactions  (CB06070U)

Terms in the title (9)： 酸化 ,  Ni ,  還元 ,  過程 ,  リアルタイム ,  光電子分光 ,  観察 ,  真空 ,  H2