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J-GLOBAL ID：201802251872198064   Reference number：18A0175064

Universal Expression of Projected Range Distributions for Spherical and Cylindrical Shape Target by Computer Simulation

コンピュータシミュレーションによる粉体および線材へのイオン注入分布の一般則

Author (6)： TAWARA SHOTARO (福井工業高等専門学校 電気電子工学科) ,  YAMAMOTO YUKIO (福井工業高等専門学校 電気電子工学科) ,  ARAKAWA MASAKAZU (福井工業高等専門学校 電気電子工学科) ,  SAIJO SATOSHI (福井工業高等専門学校 電気電子工学科) ,  HORIKAWA JUNSEI (福井工業高等専門学校 電気電子工学科) ,  YONEDA TOMOAKI (福井工業高等専門学校 電気電子工学科)
Material： Journal of the Vacuum Society of Japan  (真空)
Volume： 60  Issue： 12  Page： 463-466(J-STAGE)  Publication year： 2017 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 1882-2398  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Abstract/Point： Ion implantation into microsph...

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Thesaurus term： *ion implantation ,  particle ,  *powder ,  circular column ,  *Computer Simulation ,  stopping power ,  *cross section (area) ,  *wire rod ,  *spatial distribution ,  silicon dioxide ,  phosphorus ,  boron ,  Aluminum ,  Quartz ,  spherical particle ,  electron stopping power ,  column ,  structural element ,  *computer application ,  *utilization
Semi thesaurus term： 円柱状粒子 ,  電子阻止断面積 ,  silica

JST classification (1)： Irradiational changes in properties and structures in general  (BK16121W)

Reference (21)：

• 1) J. F. Ziegler: Ion Implantation, Science and Technology 2nd edition (Academic Press, Orlando, Florida, 2012).
• 2) M. M. M. Bilek: Appl. Surf. Sci., 310 (2014) 3.
• 3) J. R. Conrad, J. L. Radtke, R. A. Dodd, F. J. Worzala and N. C. Tran: J. Appl. Phys., 62 (1987) 4591.
• 4) M. Kawashita, F. Miyaji, T. Kokubo, G. H. Takaoka, I. Yamada, Y. Suzuki and K. Kajiyama: Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B, 121 (1997) 323.
• 5) K. Kajiyama, Y. Suzuki, M. Inoue, T. Kokubo, M. Kawashita and F. Miyaji: Proc. of 11th Int. Conf. Ion Imp. Tech., Austin, Texas, 1995, 816.

Terms in the title (5)： コンピュータシミュレーション ,  粉体 ,  線材 ,  イオン注入 ,  分布