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J-GLOBAL ID：201802264454610902   Reference number：18A1608887

Thickness-Dependent Strain Evolution of Epitaxial SrTiO₃ Thin Films Grown by Ion Beam Sputter Deposition

イオンビームスパッタ蒸着により成長させたエピタキシャルSrTiO_3薄膜の厚み依存歪発展【JST・京大機械翻訳】

Author (2)： Panomsuwan Gasidit (Department of Materials Engineering, Faculty of Engineering, Kasetsart University, 50 Phaholyothin Road, Chatuchak, Bangkok, 10900, Thailand) ,  Saito Nagahiro (Department of Chemical System Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya, 464-8603, Japan)
Material： Crystal Research and Technology  (Cryst Res Technol)
Volume： 53  Issue： 8  Page： e1700211  Publication year： 2018 
JST Material Number： B0738A  ISSN： 0232-1300  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： Epitaxial SrTiO₃ (S...

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Thesaurus term： film thickness ,  *sputtered deposition ,  *epitaxy ,  vicinal surface ,  *thin film ,  tetragonal system ,  biaxial ,  hydrostatic pressure ,  *thin film growth ,  *ion beam ,  surface roughness
Semi thesaurus term： 表面形態 ,  歪緩和 ,  単位格子 ,  引張歪 ,  圧縮歪 , 【Automatic Indexing@JST】

Author keywords (5)： epitaxy ,  ion beam sputter deposition ,  strain ,  strontium titanate ,  X-ray analysis

JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (8)： イオンビーム ,  スパッタ蒸着 ,  成長 ,  エピタキシャル ,  薄膜 ,  厚み ,  歪 ,  発展