Art

J-GLOBAL ID：201802267358120942   Reference number：18A1697486

原子間力顕微鏡法における薄膜破壊プロセスの解析

Author (8)： ISHIHARA HIROYUKI (大阪大 大学院) ,  WAKAYA FUJIO (大阪大 大学院) ,  MURAKAMI KATSUHISA (産業技術総合研) ,  NAGAO MASAYOSHI (産業技術総合研) ,  MIYATO YUJI (大阪大 大学院) ,  YAMASHITA HAYATO (大阪大 大学院) ,  ABO SATOSHI (大阪大 大学院) ,  ABE MASAYUKI (大阪大 大学院)
Material： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
Volume： 79th  Page： ROMBUNNO.18p-231A-5  Publication year： Sep. 05, 2018 
JST Material Number： Y0055B  ISSN： 2758-4704  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *atomic force microscope ,  *thin film ,  *process ,  cantilever beam ,  silicon nitride ,  silicon dioxide ,  graphene
Semi thesaurus term： cantilever ,  graphene film ,  *fracture process

JST classification (1)： Other materials  (HC04050S)

Terms in the title (4)： 原子間力顕微鏡法 ,  薄膜 ,  破壊プロセス ,  解析