Art

J-GLOBAL ID：201802271309245547   Reference number：18A1884336

In/Si(111)-(√7×√3)のフェルミ面における特異なラシュバスピンテクスチャ

Author (9)： KOBAYASHI TAKAHIRO (千葉大 大学院) ,  NAKATA YOSHITAKA (千葉大 大学院) ,  YAJI KOICHIRO (東大 物性研) ,  SHISHIDO TATSUYA (Univ. Wisconsin-Milwaukee) ,  YOSHIZAWA SHUNSUKE (物質・材料研究機構) ,  KOMORI FUMIO (東大 物性研) ,  SHIN SHIGI (東大 物性研) ,  UCHIHASHI TAKASHI (物質・材料研究機構) ,  SAKAMOTO KAZUYUKI (千葉大 大学院)
Material： 日本物理学会講演概要集(CD-ROM)  (日本物理学会春季大会講演概要集(CD-ROM))
Volume： 73  Issue： 2  Page： ROMBUNNO.12aC116-8  Publication year： Sep. 21, 2018 
JST Material Number： S0671C  ISSN： 2189-079X  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *Indium ,  *metallic thin film ,  silicon ,  layer ,  Fermi surface ,  spin polarization ,  effect ,  angle resolved spectroscopy ,  Photoelectron Spectroscopy ,  *band structure ,  calculation ,  Rashba effect ,  atomic bilayer ,  ab initio calculation ,  angle-resolved photoemission spectroscopy
Semi thesaurus term： spin resolved photoelectron spectroscopy ,  angle-resolved photoemission spectroscopy

JST classification (1)： Electronic structure of crystalline metals  (BM02050C)

Terms in the title (2)： Si ,  フェルミ面