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J-GLOBAL ID：201802277318758060   Reference number：18A1278999

精密位置決め技術の最新動向と有効活用のポイント PART1 精密位置決めの最新技術とその適用 解説6 外乱としての振動・熱への対策-半導体露光装置のステージ

Author (1)： WAKUI SHINJI (東京農工大 大学院工学研究院)
Material： 機械設計  (Machine Design)
Volume： 62  Issue： 9  Page： 49-56  Publication year： Aug. 01, 2018 
JST Material Number： G0863A  ISSN： 0387-1045  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *countermeasure ,  removal ,  *positioning device ,  *heat generation, pyrexia ,  accuracy ,  damper ,  speedup ,  control system ,  heating element ,  temperature control ,  temperature fluctuation
Semi thesaurus term： *exposure equipment ,  *semiconductor manufacturing equipment ,  *measures against vibration ,  disturbance cancellation ,  *X-Y stage ,  positioning accuracy ,  vibration isolation damper ,  position control system

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Machine design  (QA01080H)

Terms in the title (8)： 精密位置決め ,  最新動向 ,  有効活用 ,  ポイント ,  外乱 ,  対策 ,  露光装置 ,  ステージ