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J-GLOBAL ID：201802284849783305   Reference number：18A0416872

超音波噴霧装置の薄膜製造プロセスへの応用

Author (4)： SUZUKI HAYATO (仙台高専) ,  KASHIWA MARIMI (仙台高専) ,  SEKI NARIYUKI (仙台高専) ,  SUENAGA TAKATOSHI (仙台高専)
Material： 応用物理学会東北支部学術講演会講演予稿集(Web)  (応用物理学会東北支部学術講演会(Web))
Volume： 70th  Page： ROMBUNNO.3P05 (WEB ONLY)  Publication year： Dec. 03, 2015 
JST Material Number： U1291A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *atomization (spray) ,  ABS resin ,  indium chloride ,  aqueous solution ,  *sheet resistance ,  semiconductor thin film ,  substrate (plate) ,  Glass ,  *chemical vapor deposition ,  *evaporative apparatus ,  Indium ,  mist CVD
Semi thesaurus term： *ultrasonic atomization

JST classification (1)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Terms in the title (4)： 超音波噴霧 ,  薄膜 ,  製造プロセス ,  応用