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J-GLOBAL ID：201802285704946983   Reference number：18A1913141

電子線を用いたEUVレジスト感度予測法の研究

Author (2)： HOSAKA YUJI (量研) ,  OYAMA TOMOKO (量研)
Material： 放射線化学討論会講演要旨集  (Program and Abstract. Annual Meetings of the Japanese Society of Radiation Chemistry)
Volume： 61st  Page： 53-54  Publication year： Sep. 25, 2018 
JST Material Number： L0690A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： electron irradiation ,  *photoresist ,  *forecast ,  *sensitivity (ratio) ,  photolithography ,  pattern formation ,  exposure (photography) ,  absorbed radiation dose ,  electron scattering ,  *electron beam ,  *EUV resist
Semi thesaurus term： EUV lithography ,  nanopatterning

JST classification (2)： Applications of electron beams and ion beams  (BD02070X) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (5)： 電子線 ,  EUVレジスト ,  感度 ,  予測法 ,  研究