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J-GLOBAL ID:201803000274791522

排ガス処理方法及び排ガス処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 野河 信太郎 ,  甲斐 伸二 ,  金子 裕輔 ,  稲本 潔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2017026029
Publication number (International publication number):2018130672
Application date: Feb. 15, 2017
Publication date: Aug. 23, 2018
Summary:
【課題】本発明は、集塵器が腐食されたり集塵器のフィルタが閉塞することを抑制することができる排ガス処理方法を提供する。【解決手段】本発明の排ガス処理方法は、NOx及びSOxを含む排ガス中に第1冷却水を噴霧することにより形成された第1ミストの150°C以下の局所冷却域にオゾンを供給し、第1ミストよりも下流側の排ガス中にNaOH水溶液を噴霧することにより第2ミストを形成し、第2ミストよりも下流側に設けられた集塵器により排ガス中のダストを除去する排ガス処理方法であって、第1ミストは、前記局所冷却域にオゾンガスを供給するオゾン噴出口の周囲に設けられた噴霧孔から排ガス中に第1冷却水を噴霧することにより形成され、第1冷却水の噴霧量又はNaOH水溶液の噴霧量を、前記集塵器に流入する排ガスの温度が150°Cより高く350°C以下となるように調節することを特徴とする。【選択図】図1
Claim (excerpt):
NOx及びSOxを含む排ガス中に第1冷却水を噴霧することにより形成された第1ミストの150°C以下の局所冷却域にオゾンを供給し、第1ミストよりも下流側の排ガス中にNaOH水溶液を噴霧することにより第2ミストを形成し、第2ミストよりも下流側に設けられた集塵器により排ガス中のダストを除去する排ガス処理方法であって、 第1ミストは、前記局所冷却域にオゾンガスを供給するオゾン噴出口の周囲に設けられた噴霧孔から排ガス中に第1冷却水を噴霧することにより形成され、 第1冷却水の噴霧量又はNaOH水溶液の噴霧量を、前記集塵器に流入する排ガスの温度が150°Cより高く350°C以下となるように調節することを特徴とする排ガス処理方法。
IPC (3):
B01D 53/56 ,  B01D 53/50 ,  B01D 53/83
FI (3):
B01D53/56 300 ,  B01D53/50 100 ,  B01D53/83
F-Term (27):
4D002AA02 ,  4D002AA12 ,  4D002AC10 ,  4D002BA03 ,  4D002BA05 ,  4D002BA06 ,  4D002BA13 ,  4D002BA14 ,  4D002CA01 ,  4D002CA11 ,  4D002CA13 ,  4D002DA02 ,  4D002DA12 ,  4D002DA51 ,  4D002EA01 ,  4D002EA02 ,  4D002EA05 ,  4D002FA04 ,  4D002GA01 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB02 ,  4D002GB03 ,  4D002GB06 ,  4D002GB08 ,  4D002GB09 ,  4D002GB20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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