多孔性高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (6)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 福地律生 , 小林良博 , 出野知
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2017050453
Publication number (International publication number)：2018154563
Application date： Mar. 15, 2017
Publication date： Oct. 04, 2018
Summary：

【課題】優れたガス吸着特性を有する2次元積層型の多孔性高分子金属錯体及びその前駆体を提供する。【解決手段】式(1):{[Cu(bpy)(BF4)2(H2O)2]bpy}n(式中、bpyは4,4’-ビピリジン配位子、nは{[Cu(bpy)(BF4)2(H2O)2]bpy}から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。)で表される2次元積層型の多孔性高分子金属錯体の前駆体。この前駆体は、粉末X線回折測定で、回折角2θ=14度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.3〜5%、2θ=22度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.2〜5%、2θ=25度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.2〜5%、2θ=27度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.8〜7%、高角側にシフトしている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

下記式(1): {[Cu(bpy)(BF4)2(H2O)2]bpy}n (式中、bpyは4,4’-ビピリジン配位子であり、nは{[Cu(bpy)(BF4)2(H2O)2]bpy}から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。) で表される2次元積層型の多孔性高分子金属錯体の前駆体であって、粉末X線回折測定で、回折角2θ=14度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.3〜5%、2θ=22度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.2〜5%、2θ=25度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.2〜5%、2θ=27度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.8〜7%、高角側にシフトしている2次元積層型の多孔性高分子金属錯体の前駆体。

IPC (4)：

C07F 1/08 , C07F 5/02 , B01J 20/26 , B01J 20/30

FI (4)：

C07F1/08 Z , C07F5/02 Z , B01J20/26 A , B01J20/30

F-Term (26)：

4G066AA04D , 4G066AA05D , 4G066AA32A , 4G066AA56A , 4G066AB10A , 4G066AB12A , 4G066AB13A , 4G066AB24A , 4G066AC11B , 4G066BA05 , 4G066BA12 , 4G066BA28 , 4G066BA36 , 4G066CA27 , 4G066CA35 , 4G066DA01 , 4G066DA04 , 4G066FA03 , 4G066FA05 , 4G066FA11 , 4G066FA21 , 4G066FA40 , 4H048AA01 , 4H048AB80 , 4H048VA55 , 4H048VA75

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

新規有機金属錯体およびガス吸着材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-283047 Applicant：大阪瓦斯株式会社, 森和亮
高分子錯体の特性制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-159560 Applicant：新日本製鐵株式会社, 財団法人産業創造研究所

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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