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J-GLOBAL ID:201803001536272129

多孔性高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  福地 律生 ,  小林 良博 ,  出野 知
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2017050453
Publication number (International publication number):2018154563
Application date: Mar. 15, 2017
Publication date: Oct. 04, 2018
Summary:
【課題】優れたガス吸着特性を有する2次元積層型の多孔性高分子金属錯体及びその前駆体を提供する。【解決手段】式(1):{[Cu(bpy)(BF4)2(H2O)2]bpy}n(式中、bpyは4,4’-ビピリジン配位子、nは{[Cu(bpy)(BF4)2(H2O)2]bpy}から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。)で表される2次元積層型の多孔性高分子金属錯体の前駆体。この前駆体は、粉末X線回折測定で、回折角2θ=14度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.3〜5%、2θ=22度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.2〜5%、2θ=25度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.2〜5%、2θ=27度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.8〜7%、高角側にシフトしている。【選択図】図1
Claim (excerpt):
下記式(1): {[Cu(bpy)(BF4)2(H2O)2]bpy}n (式中、bpyは4,4’-ビピリジン配位子であり、nは{[Cu(bpy)(BF4)2(H2O)2]bpy}から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。) で表される2次元積層型の多孔性高分子金属錯体の前駆体であって、 粉末X線回折測定で、回折角2θ=14度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.3〜5%、2θ=22度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.2〜5%、2θ=25度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.2〜5%、2θ=27度±0.8度のピーク位置が基準材よりも0.8〜7%、高角側にシフトしている2次元積層型の多孔性高分子金属錯体の前駆体。
IPC (4):
C07F 1/08 ,  C07F 5/02 ,  B01J 20/26 ,  B01J 20/30
FI (4):
C07F1/08 Z ,  C07F5/02 Z ,  B01J20/26 A ,  B01J20/30
F-Term (26):
4G066AA04D ,  4G066AA05D ,  4G066AA32A ,  4G066AA56A ,  4G066AB10A ,  4G066AB12A ,  4G066AB13A ,  4G066AB24A ,  4G066AC11B ,  4G066BA05 ,  4G066BA12 ,  4G066BA28 ,  4G066BA36 ,  4G066CA27 ,  4G066CA35 ,  4G066DA01 ,  4G066DA04 ,  4G066FA03 ,  4G066FA05 ,  4G066FA11 ,  4G066FA21 ,  4G066FA40 ,  4H048AA01 ,  4H048AB80 ,  4H048VA55 ,  4H048VA75
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent:
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